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邁可諾技術(shù)有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

勻膠機(jī)/勻膠旋涂?jī)x

狹縫涂布儀

掩膜曝光光刻機(jī)

納米壓印光刻機(jī)

快速退火爐

烤膠機(jī)/熱板

紫外臭氧清洗機(jī)

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

等離子去膠機(jī)

超聲波清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

原子層沉積系統(tǒng)

光學(xué)膜厚儀

探針臺(tái)

壓片機(jī)/液壓機(jī)

制樣機(jī)

接觸角測(cè)角儀

手持式表面分析儀

干冰清洗機(jī)

注射泵

顯微鏡檢測(cè)系統(tǒng)

程序剪切儀

環(huán)氧樹脂

韓國(guó)波導(dǎo)樹脂

光學(xué)試劑

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙
  • 防潮箱

    馬弗爐

    培養(yǎng)箱

    蠕動(dòng)泵

    熱循環(huán)儀

    離心機(jī)

    手套箱

    天平

    鍵合機(jī)

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測(cè)儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機(jī)

    橢偏儀

    自動(dòng)涂膜器

    分光光度計(jì)

    點(diǎn)膠機(jī)

    噴涂機(jī)

    晶圓片

    密度測(cè)試儀

    臨界點(diǎn)干燥儀

    光譜儀

    太陽(yáng)光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過(guò)濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

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    有機(jī)光伏材料

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    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

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    涂布機(jī)

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    太陽(yáng)模擬器

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    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

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    鍍膜設(shè)備

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    改善旋轉(zhuǎn)涂層、優(yōu)化實(shí)驗(yàn)過(guò)程

    閱讀:231 發(fā)布時(shí)間:2020/11/25

    如何改善我們的旋轉(zhuǎn)涂層?

    有三個(gè)建議可以幫助您改善旋涂技術(shù)和終涂層質(zhì)量。

    01 嘗試動(dòng)態(tài)分配

    通過(guò)將化學(xué)物質(zhì)動(dòng)態(tài)分配到旋轉(zhuǎn)的基材上,可提高涂層的質(zhì)量和可重復(fù)性。

    02 使用注射器適配器

    使用注射器適配器提高手動(dòng)分配的準(zhǔn)確性。

    03 準(zhǔn)確的將基材放在托盤上

    偏心的基材會(huì)引起振動(dòng),影響涂層質(zhì)量,用晶圓對(duì)準(zhǔn)器以及用于方形和矩形基材的嵌入式托盤方案。

    ? 如何進(jìn)行故障排除,優(yōu)化實(shí)驗(yàn)過(guò)程?

    01清潔基材

    完整的清潔過(guò)程應(yīng)解決所有形式的污染。

    02顆粒污染

    我們的勻膠機(jī)旨在*地減少顆粒的產(chǎn)生。

    03化學(xué)污染

    殘留在晶圓上的化學(xué)污染會(huì)影響旋涂工藝,顯示了由看不見的污染點(diǎn)產(chǎn)生的涂層中的空隙。

    04排氣-旋涂

    對(duì)于簡(jiǎn)單的旋涂程序,排氣可將腔室內(nèi)的化學(xué)蒸汽帶走。我們的勻膠機(jī)有多種選配件,可滿足更苛刻的要求。

    05排氣-蝕刻,顯影和清潔

    在EDC系統(tǒng)進(jìn)行水處理時(shí),正確的排氣量更為重要。所有可能的輸入,化學(xué)試劑,去離子水,干燥氣體必須與足夠的廢氣保持平衡。這樣可防止在處理室中產(chǎn)生超壓環(huán)境,并迅速清除多余的水分。

    06清潔您的勻膠機(jī)

    如果希望獲得Z佳的旋涂效果,應(yīng)在每次操作結(jié)束時(shí)對(duì)勻膠機(jī)進(jìn)行清潔。




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